真空鍍膜機(jī)是用于真空鍍的設(shè)備。真空鍍一般包括有濺射鍍、蒸鍍和離子鍍?nèi)N類型，具體做法都是在真空條件下，通過采用蒸餾或者濺射等方式來沉積薄膜在塑件的表面，這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，具有速度快的突出優(yōu)點，一般用來作較高檔產(chǎn)品的功 能性鍍層。傳統(tǒng)的水電鍍，伴隨著高污染、高成本，已經(jīng)慢慢逐步被市場所淘汰，而新興的真空鍍技術(shù)，由于所有鍍 層材料是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，不存在溶液污染，對環(huán)境零污染；另外真空鍍的真空涂層相比傳統(tǒng)水電鍍致密度、耐腐蝕性能大大改善，沉積的鍍層厚度更是遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于常規(guī)濕法電鍍鍍層，既節(jié)約材料，同時降低了 成本；還有傳統(tǒng)水電鍍無法比擬的一點是真空鍍沉積的材料廣泛，可沉積鋁、鈦、鋯等傳統(tǒng)水電鍍無法沉積的低電位 金屬，若是加以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，還可根據(jù)需要設(shè)計涂層體系。 一點美中不足的是真空鍍的鍍層附著力比水電鍍差很多，正因為如此，水電鍍還未徹底消失，不過相信不久的將來， 這一缺點也會被修正，到時候真空鍍會徹底取代水電鍍，因此真空鍍的發(fā)展前景會非常光明。 

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