真空電鍍機的真空室內的蒸汽分子的平均自由程大于蒸發源與基片的距離時，就可以獲得充分的真空條件。因此，需要將殘余氣體的平均自由程增加，然后減少蒸汽分子與殘余氣體分子的碰撞幾率，把真空室抽成高真空是非常必要的。
在用真空電鍍機真空鍍膜過程中，對于真空度的要求不是越高越好，因為當真空室內的真空度超過10-6Pa時，就需要對真空系統進行烘烤去氣才能達到。而烘烤會污染基片，所以會低于這個真空度下制膜，成膜的質量也不會比超高真空制備的膜層差。這在抽真空的時候是需要考慮的問題，千萬不要忽視。
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