用磁控濺射鍍膜設備制備出的濺射薄膜具有如下特點：
1、膜厚可控性和重復性好
可控性指的是膜層的厚度是否可以控制在預定的數值上，重復性指的是所需的膜層厚度的重復性再現。由于磁控濺射鍍膜設備的放電電流和靶電流是分別控制的，所以控制靶電流可以控制膜厚。
2、薄膜與基片的附著力強
濺射原子能量比蒸發的高，所以沉積在基片上的能量轉換也高，產生的熱能也高，這提高了薄膜的附著能力。
3、可制備特殊材料的薄膜
幾乎所以的固體都可用該法制備薄膜。還可以將不同的材料同時濺射制備混合膜、化合膜。若使用不同的材料次序濺射，可制備多層膜。
4、膜層純度高
由于不需要借助坩堝構件，所以膜層中不會混入加熱材料的成份，純度高。
CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備
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