科技的不斷研發，讓行業內的制造工藝水平也在不斷完善。相比過去的疑難雜癥，隨著時間的遷移，已經慢慢得到解決。同時，越來越多的產品隨著人們需求的增多，在科技進步的基礎上研發誕生。而今天我們所要講的就是離子鍍膜機。

   離子鍍膜機的原理其實就是在真空室內利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來，不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用范圍。其優點是薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等。D.M.首次提出離子鍍原理，起工作過程是：先將真空室抽至4×10（-3）帕以上的真空度，再接通高壓電源，在蒸發源與基片之間建立一個低壓氣體放電的低溫等離子區。基片電極接上5KV直流負高壓，從而形成輝光放電陰極。輝光放電區產生的惰性氣體離子進入陰極暗區被電場加速并轟擊基片表面，對其進行清洗。然后進入鍍膜過程，加熱使鍍料氣化，起原子進入等離子區，與惰性氣體離子及電子發生碰撞，少部分產生離化。離化后的離子及氣體離子以較高能量轟擊鍍層表面，致使膜層質量得到改善。

多弧離子真空鍍膜機的電弧蒸發

CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機

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