1.鍍材
    傳統(tǒng)的蒸發(fā)鍍膜是將鍍材融化之后在附著到產(chǎn)品表面，這就導(dǎo)致了蒸發(fā)鍍膜設(shè)備中只能使用熔點(diǎn)較低的鍍材進(jìn)行鍍膜。而磁控濺射鍍膜設(shè)備找那個(gè)是通過(guò)氬離子高速轟擊鍍材濺射出的物質(zhì)來(lái)鍍膜，所以沒(méi)有熔點(diǎn)和材質(zhì)的限制，幾乎所有固體的材料都可以成為磁控濺射鍍膜設(shè)備的鍍材。

連續(xù)磁控鍍膜生產(chǎn)線

    2.穩(wěn)定
    磁控濺射鍍膜設(shè)備鍍膜的厚度跟導(dǎo)致氬離子射出的電流大小存在著很大的關(guān)系，所以在磁控濺射鍍膜設(shè)備內(nèi)只需要把電流的大小控制住就可以自由控制鍍膜的厚度，不會(huì)出現(xiàn)任何偏差。
    3.緊密
    在濺射鍍膜的過(guò)程中，氬離子的部分電子會(huì)和鍍膜表面產(chǎn)生撞擊，產(chǎn)生的熱能會(huì)更多，從而能使得鍍材的原子和被鍍膜產(chǎn)品結(jié)合得更加緊密。
    磁控濺射鍍膜設(shè)備在工業(yè)中有什么優(yōu)勢(shì)

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